日用化妝品用純水設備zl-hzp001

日用化妝品用純水設備

　　設備參數：
名稱：日用化妝品用純水設備
型號：zl-hzp001
操作壓力：小于1.6（Mpa）
水電阻率：5-18.2兆
出水量：0.25-100噸/小時
水質：15-18MΩ·CM
外形尺寸：根據您的大小確定（cm）
電壓：380（V）
功率：2.2K（w）
電導率：小于10US
脫鹽率：99.88（%）
單機出力：0.25-1000T（/h）
日用化妝品使用純水、去離子水的主要原因：
化妝品是女生離不開的生活用品，水是化妝品中非常重要的組成部分，不僅具有很好的溶解性，也是重要的潤膚物質。而水中的某些離子或雜質不僅能夠使膏霜乳液結塊，也可以使肌膚老化，所以，純凈無菌的水質則是護膚品的基劑溶液，水的質量影響著化妝品的質量與使用安全。因此，去除水中的各種離子、顆粒等雜質，使之完全符合超純水的要求至關緊要。當然，超純水設備的出水電導率需能夠控制在一到五微秒每平方厘米，也是化妝品生產企業不二選擇。
大多數化妝品對去離子水的要求達到一般純水的水平，使含鹽量降到1.0mg/L以下，電導率降低到1～10μs/cm〈20?°C，或電阻率0.1～1ΜΩ·cm〉。化妝品用水的另一要求是不含或盡量少含微生物。化妝品衛生標準規定：一般化妝品細菌總數不得大于1000個/ml或多或少1000個/g；眼部口唇口腔黏膜用化妝品以及嬰兒和兒童用化妝品細菌總數不得大于500個/g，而糞大腸菌群綠膿桿菌和金黃色葡萄球菌不得檢出。微生物在化妝品中會繁殖，結果使產品腐敗，產生不愉快氣味，產品發生分離結塊，對消費者也會造成傷害。任何含水的化妝品都可能滋長細菌，而且，常見的細菌來源可能是水本身，因此，必須使用超純水這種沒有微生物玷污的生產用水(主要是原料用水)作為化妝品生產的的基礎用水。

日用化妝品用超純水設備

根據化妝品生產用水的特殊要求，水處理工藝大致可分為四種： 
　　一種：采用陽陰離子交換樹脂取得的去離子水，一般通過之后，出水電導率可降到10us/cm以下，再經過混床就可以達到1us/cm以下了。但是這種方法做出來的水成本較高，而且顆粒雜質太多，達不到理想的要求。目前已較少采用了。 
二種：預處理(即砂碳過濾器+精密過濾器)+反滲透+混床工藝
這種方法是目前采用多的，因為反滲透投資成本也不算高，可以去除90%已上的水中離子，剩下的離子再通過混床交換除去，這樣可使出水電導率：5-10us/cm左右。這樣是目前流行的方法。 
三種：采用兩級反滲透方式，流程如下。 
自來水→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透→PH調節→混合器→二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點； 
四種：前處理與二種方法一樣使用反滲透，只是后面使用的混床采用EDI連續除鹽膜塊代替，這樣就不用酸堿再生樹脂，而是用電再生。這就徹底使整個過程無污染了，經過處理后的水質可達到15M以上。但這這種方法的前期投資比較多，運行成本低，根據各公司的情況做適當的投資好不過了。 流程如下。
原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調節系統→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

化妝品用純水設備