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      型號(hào):

      XTU-50B X射線熒光譜儀鍍層厚度測(cè)試儀

      描述:XTU-50B X射線熒光譜儀鍍層厚度測(cè)試儀雖然結(jié)構(gòu)緊湊,但是都有大容量的開(kāi)槽設(shè)計(jì)樣品腔,即使超過(guò)樣品腔尺寸的工件也可以測(cè)試。搭配微聚焦射線管和*光路設(shè)計(jì),以及變焦算法裝置,可測(cè)試極微小和異形樣品。是專(zhuān)門(mén)研發(fā)用于鍍層行業(yè)的一款儀器,可全自動(dòng)軟件操作,可多點(diǎn)測(cè)試,由軟件控制儀器的測(cè)試點(diǎn),以及移動(dòng)平臺(tái)。

      • 廠商性質(zhì)

        經(jīng)銷(xiāo)商
      • 更新時(shí)間

        2025-05-19
      • 訪問(wèn)量

        1940
      詳細(xì)介紹
      品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間10萬(wàn)-20萬(wàn)
      產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,包裝/造紙/印刷

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      XTU-50B X射線熒光譜儀鍍層厚度測(cè)試儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的鍍層測(cè)厚儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),不但可以測(cè)量各種微小樣品,即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測(cè)量,是一款測(cè)量涂鍍層成分及厚度性?xún)r(jià)比高、適用性強(qiáng)的機(jī)型



      應(yīng)用領(lǐng)域

      線路板、引線框架及電子元器件接插件檢測(cè)

      鍍純金、K金、鉑、銀等各種飾品的膜層成分和厚度分析

      手表、精密儀表制造行業(yè)

      釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB

      汽車(chē)、五金、電子產(chǎn)品等緊固件的表面處理檢測(cè)

      衛(wèi)浴產(chǎn)品、裝飾把手上的Cr/Ni/Cu/CuZn(ABS)

      電鍍液的金屬陽(yáng)離子檢測(cè)


      XTU-50B X射線熒光譜儀鍍層厚度測(cè)試儀性能優(yōu)勢(shì):

      下照式設(shè)計(jì):可以快速方便地定位對(duì)焦樣品。

      無(wú)損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無(wú)損檢測(cè),凹槽深度范圍0-90mm.

      微聚焦射線裝置:可檢測(cè)面積小于0.002mm2的樣品,可測(cè)試各微小的部件。

      高效率的接收器:即使測(cè)試0.01mm2以下的樣品,幾秒鐘也能達(dá)到穩(wěn)定性。

      精密微型滑軌:快速定位樣品。

      EFP*算法軟件:多層多元素,甚至有同種元素在不同層也難不倒EFP算法軟件。


      項(xiàng)       目 參        數(shù)
      測(cè)量元素范圍 Cl(17)-U(92)
      涂鍍層分析范圍 各種元素及有機(jī)物
      分析軟件 EFP,可同時(shí)分析23層鍍層,24種元素,不同層有相同元素也可分析
      軟件操作 人性化封閉軟件,自動(dòng)提示校正和步驟,避免操作錯(cuò)誤
      X射線裝置 W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管
      準(zhǔn)直器 ? 0.05 mm  ;? 0.1 mm;? 0.2 mm;? 0.5 mm;準(zhǔn)直器任意選擇一種
      近測(cè)距光斑擴(kuò)散度 10%
      測(cè)量距離 具有距離補(bǔ)償功能,可改變測(cè)量距離,能測(cè)量凹凸異型樣品,變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級(jí)到90mm)
      樣品觀察 1/2.5彩色CCD,變焦功能
      對(duì)焦方式 高敏感鏡頭,手動(dòng)對(duì)焦
      放大倍數(shù) 光學(xué)38-46X,數(shù)字放大40-200倍
      樣品臺(tái)尺寸 500mm*360mm
      移動(dòng)方式 高精密XY手動(dòng)滑軌
      可移動(dòng)范圍 50mm*50mm
      隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片 十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um
      其它附件 聯(lián)想電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱

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      項(xiàng)       目參        數(shù)
      測(cè)量元素范圍Cl(17)-U(92)
      涂鍍層分析范圍各種元素及有機(jī)物
      分析軟件EFP,可同時(shí)分析23層鍍層,24種元素,不同層有相同元素也可分析
      軟件操作人性化封閉軟件,自動(dòng)提示校正和步驟,避免操作錯(cuò)誤
      X射線裝置W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管
      準(zhǔn)直器? 0.05 mm  ;? 0.1 mm;? 0.2 mm;? 0.5 mm;準(zhǔn)直器任意選擇一種
      近測(cè)距光斑擴(kuò)散度10%
      測(cè)量距離具有距離補(bǔ)償功能,可改變測(cè)量距離,能測(cè)量凹凸異型樣品,變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級(jí)到90mm)
      樣品觀察1/2.5彩色CCD,變焦功能
      對(duì)焦方式高敏感鏡頭,手動(dòng)對(duì)焦
      放大倍數(shù)光學(xué)38-46X,數(shù)字放大40-200倍
      樣品臺(tái)尺寸500mm*360mm
      移動(dòng)方式高精密XY手動(dòng)滑軌
      可移動(dòng)范圍50mm*50mm
      隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um
      其它附件聯(lián)想電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱



      XTU-50B X射線熒光譜儀鍍層厚度測(cè)試儀性能特點(diǎn):

      1、上照式
      2、測(cè)試組件可升降
      3、高精度移動(dòng)平臺(tái)
      4、小準(zhǔn)直器
      5、高分辨率探頭
      6、可視化操作
      7、自動(dòng)定位高度
      8、自動(dòng)尋找光斑
      9、鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)
      10、良好的射線屏蔽
      11、超大樣品腔設(shè)計(jì)
      12、測(cè)試口安全防護(hù)


      技術(shù)指標(biāo):

      元素分析范圍從鈉(Na)到鈾(U)。
      一次可同時(shí)分析zui多24個(gè)元素。
      分析檢出限可達(dá)1ppm。
      分析含量一般為1ppm到99.9%。
      任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
      相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
      多變量非線性回收程序。
      多次測(cè)量重復(fù)性可達(dá)0.1%。
      長(zhǎng)期工作穩(wěn)定性為0.1%。
      溫度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
      電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。


      應(yīng)用領(lǐng)域:

      黃金,鉑,銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè).

      金屬鍍層的厚度測(cè)量, 電鍍液和鍍層含量的測(cè)定。
      主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè);銀行,首飾銷(xiāo)售和檢測(cè)機(jī)構(gòu);電鍍行業(yè)


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